ଦକ୍ଷ ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଚୁଲା ପାଇଁ ଅଭିନବ ଚିତ୍ତାକର୍ଷକ ସାମଗ୍ରୀ |

ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଚୁଲାଗୁଡ଼ିକ ମୁଖ୍ୟତ fer ଫେରୋସିଲିକନ୍, ଫେରୋମାଙ୍ଗାନିଜ୍, ଫେରେକ୍ରୋମିୟମ୍, ଫେରୋଟଙ୍ଗଷ୍ଟେନ୍ ଏବଂ ସିଲିକନ୍-ମାଙ୍ଗାନିଜ୍ ଆଲୋଇସ୍ ଉତ୍ପାଦନ କରନ୍ତି | ଉତ୍ପାଦନ ପଦ୍ଧତି ହେଉଛି କ୍ରମାଗତ ଖାଇବା ଏବଂ ଲୁହା ସ୍ଲାଗର ମଧ୍ୟବର୍ତ୍ତୀ ଟ୍ୟାପ୍ | ଏହା ଏକ ଶିଳ୍ପ ବ electric ଦ୍ୟୁତିକ ଚୁଲା ଯାହା କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ କାର୍ଯ୍ୟ କରେ |

ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍ ହେଉଛି ଏକ ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଖର୍ଚ୍ଚ କରୁଥିବା ଚୁଲା ପ୍ରକାର, ଯାହା ଶକ୍ତି ବ୍ୟବହାରକୁ ହ୍ରାସ କରିପାରେ ଏବଂ ଉତ୍ପାଦନକୁ ବ increase ାଇପାରେ, ଯାହାଫଳରେ ଚୁଲିର ଜୀବନ ଦୀର୍ଘ ସମୟ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ବ୍ୟବହୃତ ହୋଇପାରିବ | କେବଳ ଏହି ଉପାୟରେ ଉଦ୍ୟୋଗର ଉତ୍ପାଦନ ଖର୍ଚ୍ଚ ଏବଂ ବର୍ଜ୍ୟବସ୍ତୁ ଅବଶିଷ୍ଟ ପ୍ରଦୂଷକ ନିର୍ଗମନ ହ୍ରାସ ହୋଇପାରିବ | ନିମ୍ନଲିଖିତଗୁଡ଼ିକ ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଚୁଲାର ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ତାପମାତ୍ରାକୁ ଉପସ୍ଥାପନ କରେ | ବିଭିନ୍ନ ସାମଗ୍ରୀର ଚିତ୍ତାକର୍ଷକ ସାମଗ୍ରୀର ବ୍ୟବହାର କେବଳ ରେଫରେନ୍ସ ପାଇଁ |

ନୂତନ ପଦାର୍ଥ ଗରମ କ୍ଷେତ୍ର: ଉପର ସ୍ତର ପ୍ରାୟ 500 ମିମି, ଏହାର ତାପମାତ୍ରା 500 ℃ -1000 ℃, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ବାୟୁ ପ୍ରବାହ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ କଣ୍ଡକ୍ଟନ୍ ଉତ୍ତାପ, ଭୂପୃଷ୍ଠ ଚାର୍ଜର ଜାଳେଣି ଏବଂ ଚାର୍ଜ ବଣ୍ଟନ କରେଣ୍ଟ ପ୍ରତିରୋଧ ଉତ୍ତାପ | ଏହି ଅଂଶର ତାପମାତ୍ରା ଅଲଗା, ଏବଂ ଏହା ମାଟି ଇଟା ସହିତ ଧାଡି ହୋଇ ରହିଥାଏ |

ପ୍ରିହେଟିଂ ଜୋନ୍: ଜଳ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହେବା ପରେ ଚାର୍ଜ ଧୀରେ ଧୀରେ ତଳକୁ ଗତି କରିବ ଏବଂ ପ୍ରିହେଟିଂ ଜୋନ୍ରେ ସିଲିକା ସ୍ଫଟିକ୍ ଫର୍ମରେ ପ୍ରାଥମିକ ପରିବର୍ତ୍ତନ ହେବ, ଭଲ୍ୟୁମରେ ବିସ୍ତାର ହେବ, ଏବଂ ତା’ପରେ ଫାଟିଯିବ କିମ୍ବା ଫାଟିଯିବ | ଏହି ବିଭାଗର ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରାୟ 1300 ° C ଅଟେ | ଉଚ୍ଚ ଆଲୁମିନା ଇଟା ସହିତ ନିର୍ମିତ |

ସିଣ୍ଟରିଂ କ୍ଷେତ୍ର: ଏହା ହେଉଛି ଗୁରୁତ୍ୱପୂର୍ଣ୍ଣ ଶେଲ୍ | ତାପମାତ୍ରା 1500 ℃ ରୁ 1700 between ମଧ୍ୟରେ | ତରଳ ସିଲିକନ୍ ଏବଂ ଲୁହା ସୃଷ୍ଟି ହୋଇ ତରଳ ପୁଷ୍କରିଣୀରେ ପକାଯାଏ | ଚୁଲା ସାମଗ୍ରୀର ସିନ୍ଟରିଂ ଏବଂ ଗ୍ୟାସ୍ ବିସ୍ତାର ଯୋଗ୍ୟତା ଖରାପ | ଗ୍ୟାସ୍ ଭେଣ୍ଟିଲେସନ୍ ପୁନରୁଦ୍ଧାର ଏବଂ ପ୍ରତିରୋଧ ବୃଦ୍ଧି ପାଇଁ ବ୍ଲକଗୁଡିକ ଭାଙ୍ଗିବା ଉଚିତ୍ | ଏହି ଅ in ୍ଚଳରେ ତାପମାତ୍ରା ଅଧିକ | ବହୁତ କ୍ଷତିକାରକ | ଏହା ଅର୍ଦ୍ଧ-ଗ୍ରାଫିକ୍ କାର୍ବନ - କାର୍ବନାଇଜଡ୍ ସିଲିକନ୍ ଇଟା ସହିତ ନିର୍ମିତ |

ହ୍ରାସ ଜୋନ୍: ବହୁ ସଂଖ୍ୟକ ତୀବ୍ର ପଦାର୍ଥ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଜୋନ୍ | କ୍ରୁସିବଲ୍ ଜୋନର ତାପମାତ୍ରା 1750 ° C ରୁ 2000 ° C ମଧ୍ୟରେ | ନିମ୍ନ ଭାଗଟି ଆର୍ ଗୁହାଳ ସହିତ ସଂଯୁକ୍ତ ଏବଂ ମୁଖ୍ୟତ S SIC ର କ୍ଷୟ, ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଉତ୍ପାଦନ, C ଏବଂ Si ସହିତ ତରଳ Si2O ର ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକ ଅର୍ଦ୍ଧ-ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଭଜା କାର୍ବନ ଇଟା ସହିତ ନିର୍ମାଣ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ | ।

ଆର୍କ ଜୋନ୍: ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ତଳେ ଥିବା ଗୁହାଳ ଅଞ୍ଚଳରେ ତାପମାତ୍ରା 2000 ° C ରୁ ଅଧିକ | ଏହି ଅଞ୍ଚଳର ତାପମାତ୍ରା ସମଗ୍ର ଚୁଲିରେ ସର୍ବୋଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଷେତ୍ର ଏବଂ ସମଗ୍ର ଚୁଲା ଶରୀରରେ ସର୍ବ ବୃହତ ତାପମାତ୍ରା ବଣ୍ଟନର ଉତ୍ସ | ତେଣୁ, ଯେତେବେଳେ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଅସ୍ଥାୟୀ ଭାବରେ ଭର୍ତ୍ତି କରାଯାଏ, ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା କ୍ଷେତ୍ର ଉପରକୁ ଗତି କରେ, ଏବଂ ଚୁଲିର ତଳ ତାପମାତ୍ରା କମ୍ ତରଳାଯାଇଥିବା ସ୍ଲାଗ୍ କମ୍ ନିଷ୍କାସିତ ହୁଏ, ଏକ ମିଥ୍ୟା ଚୁଲା ତଳ ସୃଷ୍ଟି କରେ, ଯାହା ଦ୍ tap ାରା ଟ୍ୟାପ୍ ଛିଦ୍ର ଉପରକୁ ଗତି କରେ | ଚୁଲିର ସୁରକ୍ଷା ପାଇଁ ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ମିଥ୍ୟା ଚୁଲା ତଳର କିଛି ଲାଭ ଅଛି | ସାଧାରଣତ speaking କହିବାକୁ ଗଲେ, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଭର୍ତ୍ତିର ଗଭୀରତା ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ର ବ୍ୟାସ ସହିତ ଅନେକ କିଛି କରିଥାଏ | ସାଧାରଣ ଭର୍ତ୍ତି ଗଭୀରତାକୁ ଚୁଲିର ତଳରୁ 400 ମିମି -500 ମିମିରେ ରଖିବା ଉଚିତ | ଏହି ଅଂଶର ଅଧିକ ତାପମାତ୍ରା ଅଛି ଏବଂ ସେମି-ଗ୍ରାଫାଇଟ୍ ଭଜା ଅଙ୍ଗାର ଇଟା ସହିତ ନିର୍ମିତ |

ସ୍ଥାୟୀ ସ୍ତର ଫସଫେଟ୍ କଂକ୍ରିଟ୍ କିମ୍ବା ମାଟି ଇଟା ଦ୍ୱାରା ନିର୍ମିତ | ଫର୍ଣ୍ଣେସ୍ କବାଟକୁ କରଣ୍ଡମ୍ କାଷ୍ଟେବଲ୍ ସହିତ ପକାଯାଇପାରିବ କିମ୍ବା ସିଲିକନ୍ କାର୍ବାଇଡ୍ ଇଟା ସହିତ ପୂର୍ବରୁ ରଖାଯାଇପାରିବ |

ସଂକ୍ଷେପରେ, ଫେରୋସିଲିକନ୍ ଚୁଲାର ଆକାର, ତାପମାତ୍ରା, ଏବଂ କ୍ଷୟ ଡିଗ୍ରୀ ଅନୁଯାୟୀ ଉପଯୁକ୍ତ, ପରିବେଶ ଅନୁକୂଳ ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ରେଫ୍ରେକ୍ଟୋରୀ ଇଟା ଏବଂ କାଷ୍ଟେବଲ୍ ଲାଇନ୍ ପାଇଁ ଚୟନ କରାଯିବା ଉଚିତ |